据国际新闻评论员陈菲的报道，荷兰时报（NL Times）透露，美国正在推动一项名为"match法案"的立法，要求荷兰禁止向中国销售或维修所有ASML光刻机，并设定了150天的合规期。同时，美国还以域外制裁作为威压手段。对此，荷兰贸易大臣对此被迫合作的行为表示反对，称其“不可取”，并已向相关部门进行游说，试图阻止这项法案的通过。然而，荷兰内部消息人士透露，阻止法案的可能性非常渺茫。

ASML对美国供应链的高度依赖限制了荷兰方面以及ASML自身的反应能力，这直接反映出当前荷兰半导体产业面临的被动局面。ASML被广泛视为欧洲的重要企业，且在全球 semiconductor 设备行业中占据首位，实力虽然显赫，但其实是建立在美国供应链的基础上。早期，ASML的技术并不突出，难以与来自美国和日本的竞争对手抗衡，但由于日本企业尼康在157纳米光刻机方面的巨额投资和对浸润式技术的抵制，反而给了ASML发展的机会。

在与台积电合作开发浸润式DUV光刻机的过程中，ASML将光刻机的波长从193纳米缩短至134纳米，取得了对尼康的技术领先。同时，ASML还参与了极紫外光（EUV）光刻机的研发，承担了最终设备制造的角色，并通过收购SVG和Cymer等公司，加强了与美国技术供应链的合作。

光刻机作为工业设备，其本质上应用场景是制造半导体产品。若美国限制ASML向中国交付用以制造先进芯片的EUV设备，ASML将仅损失一部分客户；但若连DUV设备也被禁，ASML在中国市场的业务几乎会被清零。据统计，2025年，ASML中国业务将占其总销售的33%，而2026年预计将降至20%左右。EUV设备早已受到美国管控，ASML在中国的业务几乎只剩与DUV及测量设备相关的项目。

美国的"match法案"不仅要求ASML停止向中国客户提供所需的光刻机设备，还禁止对现有设备提供技术维护。这意味着，ASML可能会失去中国市场，从而让位于尼康等其他光刻机制造商。尼康已表态准备大力进军中国市场，提供新设备和技术支持，虽然其市场份额远不及ASML，但在特定领域也具备竞争力。

此外，中国自主研发光刻机设备的可能性也变得更高。尽管尼康可能会成为替代者，但由于其仍为进口设备，无法彻底摆脱对外技术依赖。而自主研发的设备将确保技术的掌控，降低被限制的风险。在当前情况下，开发可自主控制的浸润式DUV光刻机显得尤为重要。若ASML因外部压力无法继续在中国市场运营，推动国内设备的发展则成为更为合理的选择。